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  • 刻蝕系統
    刻蝕系統

    刻蝕系統三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可以通過預真空室和/或真空片盒站加載。

    更新時間：2025-10-20型號：訪問量：1333
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  • 集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統
    集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統

    集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統 三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可以通過預真空室和/或真空片盒站加載。

    更新時間：2025-10-20型號：訪問量：870
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